Модули обладают высокой химической и температурной стойкостью.
Допускается очистка и регенерация с использованием водного раствора NaOH при температуре до 80 °C.
ОчисткаДля восстановления производительности рекомендуется химическая очистка при следующих параметрах:
- ΔP (трансмембранное давление): 0,5–1,0 бар
- P-in (давление на входе): 0,5–1,5 бар
- P-out (давление на выходе): 0,1–0,5 бар
- Время очистки: 15–30 минут
Рекомендуемые моющие растворы:
- NaOH ≤ 0,5 моль/л
- NaClO ≤ 250 мг/л
Рекомендуется начинать очистку с растворов низкой концентрации. Допускается комбинированное применение моющих средств.
Регенерация
Регенерация может выполняться с использованием водного раствора NaOH концентрацией до 1 моль/л при температуре до 80 °C.
ХранениеДля длительного хранения рекомендуется выдерживать в 0,01 % растворе NaOH.
Защитный раствор следует заменять каждые 6 месяцев.